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石排氩气:近期工业气体产品标准
2017/10/10 9:00:15

标准编号标准名称实施日期主要内容
GB/T17874-2010电子工业用气体三氯化硼2011-5-1规定了电子工业用气体三氯化硼的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全。
GB/T26249-2010电子工业用气体硒化氢2011-5-1规定了电子工业用气体硒化氢的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全。
GB/T26250-2010电子工业用气体砷化氢2011-5-1规定了电子工业用气体砷化氢的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全。
GB/T26251-2010氟及氟氮混合气2011-5-1/
GB/T26073-2010有毒与可燃性气体检测系统安全评价导则2011-5-1/
GB/T16945-2009电子工业用气体 氩2010-5-1规定了氩的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全。适用于以深冷法从空气、合成氨尾气中提取的液态和气态氩以及经纯化方法得到的氩。氩用于系统的吹扫、保护和增压,还可以用于化学汽相淀积、溅射、等离子及活性离子刻蚀剂和退火等不同工艺中。
GB/T16944-2009电子工业用气体 氮2010-5-1规定了电子工业用气体氮的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全。适用于以深冷法从空气中提取的气态和液态氮,以及经电化学方法得到的氮。在超大规模集成电路制造中用作保护、吹扫、覆盖、加压,化学气相淀积等。
GB/T16942-2009电子工业用气体 氢2010-5-1规定了电子工业用氢的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全。适用于以氢气为原料经净化制取的瓶装、集装格装和管道输送的电子工业用氢气。主要被用来提供还原气氛,作为外延工艺的载气以及等离子体蚀刻剂的配气原料。
GB/T14604-2009电子工业用气体 氧2010-5-1规定了电子工业用氧的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全。适用于以深冷法、电解法提取的气态或液态氧,以及经纯化方法得到的氧。主要用于二氧化硅化学气相淀积,用作氧化源和生产高纯水的反应剂,用于等离子体蚀刻和剥离、光导纤维。
GB/T14601-2009电子工业用气体 氨2010-5-1规定了氨的技术要求,试验方法,检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。适用于半导体工业,氮化硅、氮化镓的化学气相淀积,也可用于硅或氧化硅的氮化。
GB/T16943-2009电子工业用气体 氦2010-5-1规定了氦的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全。适用于以深冷法从天然气、空气和工厂弛放气中提取的气态和液态氦,以及经纯化方法得到的氦。
GB/T23938-2009高纯二氧化碳2010-2-1规定了高纯二氧化碳的要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全警示。适用于以工业二氧化碳为原料经纯化制得的高纯度二氧化碳。高纯二氧化碳主要用于激光、电子工业、反应堆气体冷却剂、科学研究等领域。
GB16912-2008深度冷冻法生产氧气及相关气体安全技术规程2009-10-1规定了工业氧气及相关气体的生产(含设计、制造、安装、改造、维修)、储存、输配和使用中应遵守的安全要求。适用于新建、扩建和改建的采用深度冷冻法生产氧气及相关气体的单位。
GB/T3863-2008工业氧2008-11-1规定了工业氧的技术要求、试验方法以及包装、标志、储存与运输。给出了氧气安全警示。适用于由深冷法分离空气和电解水等方法制取的气态或液态氧,主要用于冶金、化工、环境保护、火焰加工等。
GB/T3864-2008工业氮2008-11-1代替GB/T3864-1996《工业氮》。规定了工业氮的技术要求、检验方法以及包装、标志、贮运等。适用于由分离空气制取的气态氮或液态氮,主要用作保护气、置换气、低温储藏等。

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